歡迎來到北京瑞科中儀科技有限公司！
服務熱線：010-82900840
歡迎來到北京瑞科中儀科技有限公司！
服務熱線：010-82900840
產品分類
Cassification
更新時間：2023-10-24 
瀏覽次數：1314化學氣相沉積（CVD）技術是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術。在典型的CVD工藝過程中，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發生化學反應并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術具有成膜范圍廣、重現性好等優點，被廣泛用于多種不同形態的成膜。北方華創微電子憑借十余年的微電子領域精密工藝設備開發經驗，致力于為集成電路、半導體照明、微機電系統、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領域提供各種類型的CVD設備，滿足客戶多種制造工藝需求。北方華創微電子開發的臥式PECVD 已成功進入海外市場，為多家*光伏制造廠提供解決方案。而硅外延設備在感應加熱高溫控制技術、氣流場、溫度場模擬仿真技術等方面取得了重大的突破，達成了優秀的外延工藝結果，獲得多家國內主流生產線批量采購。面向LED領域介質膜沉積的PECVD設備，憑借優秀的工藝性能和產能優勢，已成為LED客戶擴產優選設備。
P
PRODUCTSN
NEWSA
ABOUT USC
CODE
聯系電話：13141422348
聯系郵箱：[email protected]
公司地址：北京市昌平區北清路1號院8號樓2單元
Copyright © 2025 北京瑞科中儀科技有限公司版權所有 備案號：京ICP備11027741號-10 技術支持：化工儀器網
您的位置：